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钆（Gadolinium, Gd）是一种银白色稀土金属，具有显著的磁性、良好的导热性及优异的中子吸收能力。钆靶材因其独特的磁学与光学特性，被广泛应用于磁性薄膜、核能、光学镀膜及电子器件中。其沉积的薄膜在磁存储、传感器和功能性涂层领域表现出卓越的性能，是科研与工业薄膜制备的重要稀土材料。
苏州科跃材料科技有限公司提供高纯度钆靶材（纯度99.9%–99.99%），采用真空熔炼与热等静压（HIP）工艺制备，组织致密、晶粒均匀、溅射性能稳定。
靶材可提供圆形、矩形及异形结构，适配DC（直流）与RF（射频）磁控溅射系统。
可选铜（Cu）、钛（Ti）或铟焊（In Bonded）背板结合，以提升散热性能与机械强度。
高纯度（3N–4N），薄膜质量稳定；
优异的磁性与电学性能；
致密结构，溅射速率稳定；
良好的热导性与抗氧化性；
可定制不同尺寸与形状规格。
磁性薄膜：用于GMR、TMR及磁光存储器件；
光学镀膜：用于反射膜与功能性光学膜；
半导体工业：用于掺杂层与复合膜制备；
核能领域：用于中子吸收膜及防护涂层；
科研实验：用于稀土功能薄膜及磁性合金研究。
| 参数 | 典型值 / 范围 | 重要性说明 |
|---|---|---|
| 纯度 | 99.9% – 99.99% | 高纯度减少杂质，改善磁学性能 |
| 直径 | 25 – 300 mm（可定制） | 适配主流溅射系统 |
| 厚度 | 3 – 6 mm | 影响膜层沉积速率 |
| 密度 | ≥ 7.90 g/cm³ | 致密结构提升溅射稳定性 |
| 背板结合 | Cu / Ti / In 焊 | 提高散热与机械稳定性 |
| 制备工艺 | 真空熔炼 + HIP | 微结构均匀，溅射寿命长，效率高 |
| 问题 | 答案 |
|---|---|
| 钆靶材可用于哪些溅射系统？ | 适用于DC与RF磁控溅射系统。 |
| 钆靶材的薄膜特性如何？ | 具有优异的磁性与导热性。 |
| 是否可与其他材料共溅射？ | 可以，与Fe、Co、Ni等共溅射形成磁性复合膜。 |
| 是否易氧化？ | 钆易氧化，应在真空或惰性气氛下操作。 |
| 是否提供背板焊接？ | 可提供Cu、Ti或In焊结合服务。 |
| 是否适用于磁性材料研究？ | 是的，广泛用于磁存储与磁光膜制备。 |
| 可否定制尺寸？ | 可提供Ø25–Ø300 mm及矩形靶材定制。 |
| 包装方式？ | 采用真空密封、防震、防潮包装，确保洁净运输。 |
钆靶材以其优异的磁性、热学与结构稳定性，在磁光、半导体及核能材料领域中占据重要地位。苏州科跃材料科技有限公司提供高纯度、高致密度的Gd靶材及专业背板结合方案，确保薄膜沉积均匀、溅射稳定，是科研与高端制造的理想材料选择。
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苏州科跃材料科技有限公司是一家专注于高纯材料、薄膜沉积靶材、特种合金及磁性材料研发与生产的高新技术企业。我们提供从高纯金属（3N~6N）、溅射靶材、蒸发材料到特种合金、磁性组件及定制加工的一站式材料解决方案，服务于半导体、新能源、航空航天、科研院所等领域。
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