硼靶材(B)

硼靶材(B Sputtering Target)

产品简介(Introduction)

硼(Boron, B)是一种黑色或深灰色的高硬度非金属元素,具有超高熔点(约 2076 °C)、优异的化学稳定性和低密度结构。硼靶材凭借其出色的硬度、耐磨性、化学惰性以及良好的光学特性,被广泛用于防护涂层、光学薄膜、半导体以及先进陶瓷领域,是高性能薄膜制备中的重要材料。

产品详情(Detailed Description)

苏州科跃材料科技有限公司提供高纯度硼靶材(纯度 99.5%–99.99%),采用热压烧结(HP)、热等静压(HIP)或高纯压制成型生产工艺,成品具有高致密度、结构均匀、低孔隙率的特点。
硼靶材可制成 圆形、矩形、环形及异形靶材,可用于 直流(DC)与射频(RF)磁控溅射系统
可根据应用需求提供 铜(Cu)、钛(Ti)背板铟焊(In Bonded)结合,以提高散热效率与机械稳定性。

工艺与性能特点

  • 高熔点与高硬度,适用于耐磨防护膜;

  • 极低密度,适合轻量化薄膜应用;

  • 化学惰性强,适用于腐蚀性环境薄膜;

  • 膜层光学性能稳定,适用于光学镀膜;

  • 表面平整光洁,溅射过程稳定;

  • 支持各种规格定制(Ø25–Ø300 mm,3–6 mm厚)。

应用领域(Applications)

1. 光学镀膜

  • 高反射膜

  • 红外吸收膜

  • 防护膜层

  • 光学过滤与结构膜

2. 半导体与微电子

  • 掺杂层(如B掺杂硅)

  • 电极保护层

  • 低介电常数薄膜(B基材料)

3. 防护与耐磨涂层

  • 硬质防护涂层(如B-C体系)

  • 高温抗腐蚀膜

  • 航空航天表面强化膜

4. 能源与功能材料

  • 硼基陶瓷材料薄膜

  • 中子吸收功能层(核能应用)

5. 科研用途

  • 硼化物薄膜(如TiB₂、ZrB₂)

  • 硼碳、硼氮复合功能膜

  • 高温防护材料研究

技术参数(Technical Parameters)

参数 典型值 / 范围 重要性说明
纯度 99.5% – 99.99% 高纯度可减少颗粒与薄膜缺陷
直径 Ø25–Ø300 mm(可定制) 适配各类溅射腔体
厚度 3–6 mm 影响溅射速率与靶材寿命
密度 2.30–2.35 g/cm³ 致密性越高,薄膜一致性越好
制备工艺 HP / CIP / HIP 高致密度、低孔隙率
背板结合 Cu / Ti / In Bonded 提升散热与结构强度

相关材料对比(Comparison with Related Materials)

材料 主要优势 典型应用
硼(B) 高硬度、轻量、化学稳定性强 防护膜、光学膜
二硼化钛(TiB₂) 超高硬度、导电性好 工具涂层、耐磨膜
氮化硼(BN) 高绝缘性、耐高温 绝缘膜、润滑膜
碳(C) 适合DLC类薄膜 防护膜、摩擦膜

常见问题(FAQ)

问题 答案
硼靶材适用于哪些溅射方式? 适用于 DC 与 RF 磁控溅射。
薄膜表面硬度高吗? 硼薄膜具有高硬度,常用于防护及耐磨层。
是否可以共溅射? 可以,可与Ti、Zr、C、N等材料共溅射形成功能膜。
是否易碎? 硼为脆性材料,运输与使用需避免撞击。
是否提供背板焊接? 可提供Cu/Ti/In Bonded多种方案。
是否易氧化? 硼具有一定化学稳定性,但建议真空密封保存。
可否定制异形靶材? 可以,支持根据图纸加工任意形状。

包装与交付(Packaging)

所有硼靶材均采用:

  • 真空密封包装

  • 防静电袋与干燥处理

  • 防震泡沫防护

  • 出口级硬纸箱或木箱

结论(Conclusion)

硼靶材以其高硬度、轻质与优异的化学稳定性,在光学、半导体、耐磨防护和高温材料领域中具有广泛应用。苏州科跃材料科技有限公司提供高纯度、高致密度硼靶材,并可根据需求提供背板焊接方案,为高端薄膜制备提供可靠材料支持。

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