锑靶材（Sb）

产品简介（Introduction）

锑靶材（Sb Sputtering Target）是一种在半导体、光电材料、薄膜电极以及功能涂层领域中广泛应用的高纯金属靶材。锑具有良好的电学与光学调控能力，可通过磁控溅射形成具备优异导电性、可调折射率以及良好稳定性的薄膜层。在新型能源器件、红外光学元件、微电子器件制造等高端应用场景中，锑靶材发挥着关键作用。

其核心优势包括优良的薄膜成分可控性、高纯度带来的低缺陷密度，以及适配多种基底材料的沉积兼容性，使其成为科研与工业生产中不可或缺的关键材料。

产品详情（Detailed Description）

苏州科跃材料科技有限公司（Keyue Materials）提供的锑靶材通常具备以下规格特点：

• 纯度范围： 99.9% – 99.999%（3N–5N），高纯度保证薄膜缺陷更低、晶粒均匀。

• 尺寸范围： 直径 25–300 mm，可定制；厚度 3–6 mm，支持主流磁控溅射腔体。

• 制造工艺：

  • 真空熔炼铸锭

  • 热轧 / 冷轧

  • 精密机加工

  • 可根据需求进行 CIP/HIP 增致密工艺

• 致密度： ≥ 95% Theoretical Density
  高致密度有助于提升溅射速率、降低颗粒脱落风险，提升膜层一致性与附着性。

• 背板结合（可选）： 铜背板 / 钛背板 / 铟焊
  提升热传导、降低靶材破裂风险，提高溅射稳定性以及靶材利用率。

这些参数共同决定了靶材在稳定性、膜层均匀性、溅射速率以及薄膜性能上的最终表现，使其适用于复杂应用环境。

应用领域（Applications）

锑靶材常用于以下薄膜工艺与行业应用：

• 半导体薄膜沉积：
  MOS 元件、阻变存储器、薄膜电极、金属间化合物薄膜调控。

• 光学镀膜：
  红外设备、滤波器、调制元件、可调折射率薄膜。

• 能源材料：
  光伏薄膜、电池电极材料、热电材料功能层。

• 显示与光电器件：
  TFT、OLED、电致变色薄膜、传感器材料。

• 装饰性涂层与功能涂层：
  建筑玻璃、汽车玻璃、其他功能涂层系统。

• 科研实验：
  金属间化合物研究、合金掺杂实验、相变薄膜研究等。

技术参数（Technical Parameters）

相关材料对比（Comparison with Related Materials）

常见问题（FAQ）

包装与交付（Packaging）

所有锑靶材出厂前均经过严格检测，并附唯一追溯编号。
包装方式包括：

• 防静电真空袋密封

• 防震泡沫保护

• 出口级木箱装载

可确保在运输与长期储存过程中保持洁净与完好。

结论（Conclusion）

锑靶材凭借优良的光学与电学性能、可控的薄膜结构以及良好的工艺兼容性，成为半导体、光电、能源材料与科研领域中关键的薄膜制备材料。其稳定性、重复性和高纯度水平使其成为高端设备制造的重要组成部分。

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